功能性涂层镀膜设备
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设备定制化生产，具有灵活的配置，可集成多种沉积方式，离子弧、溅射、HiPIMS、RF等，适应特殊涂层及新行业应用需求，为新涂层，新材料的开发提供更多的可能性。设备具有沉积速率快，膜层一致性好，生产过程无污染等特点，从而解决客户对产品的要求。我们行业经验丰富，为客户提供交钥匙服务，解决客户所需。
优点优势
等离子密度非常高；
涂层结合力强；
显微镜下膜层致密，无孔洞；
高耐磨性；
技术指标
设备型号 | SP-0810ASI | SP-1112ASI | SP-1215ASI | SP-1512AI |
真空室尺寸（mm） | 800×1000 | 1100×1200 | 1200×1500 | 1500×1200 |
极限真空 | 6.0E-4Pa | |||
抽气时间 | 空载大气至5.0E-3Pa小于15分钟 | |||
压升率 | 1h≤0.5Pa | |||
真空泵组 | 机械泵+罗茨泵+分子泵+维持泵 | |||
加热系统 | 常温至500℃可调可控（PID控温） | |||
加气系统 | 质量流量控制仪（1-4路） | |||
靶架构 | 圆弧靶、Cloud弧、溅射靶、气体离子源、蒸发源 | |||
电源类型 | 弧电源、高压轰击偏压电源、HiPIMS溅射电源、SPA电源、射频电源等 | |||
工件旋转方式 | 公自转+二次自转 变频可控可调1-5转/分 | |||
控制方式 | 手动+半自动+全自动一体化+PLC+IPC | |||
备注 | 设备各配置指标可按客户产品及特殊工艺要求定制 | |||
应用领域
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