产品简介
适用于有机玻璃、无机玻璃表面涂层的制备,在基材表面镀制ITO薄膜和增透膜,具有良好的导电性和透光率。设备可搭载直流电源、中频电源、射频电源、离子电源、Hipims等系统,根据用户的工艺应用作定制化的搭配,以满足不同用户的需求。由于有机玻璃的耐热性较差,因此,需要配备专门的加热系统,如红外加热器或热辐射加热器,通过控制系统对温度进行精准控制。
制造标准 :设备经过ISO9001国际质量体系认证及CE认证,设备所有零、部件和各种仪表的计量单位全部采用国标或国际单位(SI)标准。
优点优势
优异的膜层均匀性;
根据产品结构进行仿形运动;
膜层性能精准可控
技术指标
| 设备型号 | SP-2112SI | |||
| 真空室尺寸(mm) | 13000×2800×3100 | |||
| 产品尺寸(mm) | 支持可镀工件最大宽度:1300mm;最大长度:3500mm;最大拱高:800mm(可根据客户要求定制) | |||
| 极限真空 | 5.0E-4Pa(空载情况下12小时内达到) | |||
| 抽气时间 | 空载大气至8.0E-3Pa(空载情况下2小时内达到) | |||
| 镀膜工作压力(Pa) | 0.1Pa~1Pa数量级 | |||
| 压升率 | 1h≤0.4Pa | |||
| 涂层均匀性 | 导电膜膜层面电阻差异≤±10%(根据工艺要求6~500nm) | |||
| 真空泵组 | 干式螺杆泵+无油罗茨泵+磁悬浮分子泵+低温捕集器 | |||
| 加热系统 | 工件表面温度 :常温~ 100℃(可调);加热时间 ≤ 60min;加热均匀性 ≤ ±3℃(工件镀膜有效范围内,表面实际温度) | |||
| 加气系统 | 质量流量控制仪(1-6路) | |||
| 离子源/靶源 | 离子源轰击,大曲率仿形靶磁控溅射,支持内外表面镀膜(内外阴极数量可根据客户要求选,配各2~4支) | |||
| 电源类型 | 中频溅射电源、脉冲直流电源、射频电源、离子电源、Hipims | |||
| 工件旋转方式 | 与靶联动仿形运动/往复摆动/旋转运动 | |||
| 控制方式 | 手动+半自动+全自动一体化+PLC+IPC | |||
| 备注 | 在PMMA基材上低温磁控溅射ITO附着力达到1级以上,电阻阻值30欧姆,透光度80%以上。 | |||
应用领域
