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科研镀膜设备

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画板 1 拷贝 21.png 产品简介


品牌(2).png 实验型真空镀膜设备有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、耗电量低的特点。可实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、HiPIMS、RF、电弧镀膜、CVD、PECVD等工艺。可进行手动、半自动、全自动控制。有多种尺寸型号可供选择。


画板 1 拷贝 20.png 优点优势


 1.png 功能可灵活组合2.png 可结合用户进行定制化生产,满足试验需求3.png 工艺编程多样化4.png 提供联合实验开发服务


画板 1 拷贝 22.png 技术指标



设备型号

SP-0305AS

SP-0506AS

SP-0608ASI

SP-1005ASI

真空室尺寸(mm)

300×500

500×600

600×800

1000×500

极限真空

6.0E-5Pa

抽气时间

空载大气至5.0E-3Pa小于10分钟

压升率

1h≤0.5Pa

真空泵组

机械泵+罗茨泵+分子泵+维持泵

加热系统

常温至500℃可调可控(PID控温)

加气系统

质量流量控制仪(1-4路)

靶结构

感应耦合电离、电子束蒸发、电阻蒸发、多弧靶、溅射靶、射频靶、离子源等

电源类型

偏压电源、感应加热电源、电子枪电源、弧电源、直流溅射电源、中频溅射电源、射频电源、HiPIMS电源等

工件运行方式

公转+自转 变频无极调速

控制方式

手动+半自动+全自动一体化+PLC+IPC

备注

设备各配置指标可按客户产品及特殊工艺要求定制


画板 1 拷贝 23.png 应用领域