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结构件涂层镀膜设备

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画板 1 拷贝 21.png 产品简介


品牌(2).png 结构件涂层镀膜设备,采用物理气相沉积技术(PVD),将固体材料源表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体或等离子体,在基材表面沉积具有特殊功能的薄膜技术。PVD技术广泛应用与航空航天、轻工、材料等领域。可制备具有耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、润滑等特性的膜层。


画板 1 拷贝 20.png 优点优势


 1.png 可根据产品结构进行仿形扫描制备涂层2.png 膜层均匀致密3.png 结合力优异


画板 1 拷贝 22.png 技术指标



设备型号SP-2020ASISP-2030SISP-2540SISP-3050SI
炉体尺寸(mm)2000×2000
2000×30002500×40003000×5000
极限真空5.0E-4Pa
抽气时间空载大气至5.0E-3Pa小于30分钟
压升率1h≤0.5Pa
真空泵组机械泵+罗茨泵+扩散泵/分子泵
加热系统仿形加热器,常温至300℃可调可控(PID控温)
加气系统质量流量控制仪(1-8路)
靶结构平面靶、圆柱旋转靶、圆弧靶、离子源
电源类型中频电源、直流电源、弧电源、离子电源
工件旋转方式与靶联动仿形运动/旋转运动
控制方式手动+半自动+全自动一体化+PLC+IPC
备注设备各配置指标可按客户产品及特殊工艺要求定制。



画板 1 拷贝 23.png 应用领域